Lembaran Tantalum
-
Sasaran Sputtering Tantalum – Cakera
Sasaran sputtering Tantalum digunakan terutamanya dalam industri semikonduktor dan industri salutan optik.Kami mengeluarkan pelbagai spesifikasi sasaran tantalum sputtering atas permintaan pelanggan daripada industri semikonduktor dan industri optik melalui kaedah peleburan relau EB vakum.Dengan berhati-hati terhadap proses rolling yang unik, melalui rawatan yang rumit dan suhu dan masa penyepuhlindapan yang tepat, kami menghasilkan dimensi berbeza sasaran tantalum sputtering seperti sasaran cakera, sasaran segi empat tepat dan sasaran berputar.Selain itu, kami menjamin ketulenan tantalum adalah antara 99.95% hingga 99.99% atau lebih tinggi;saiz butiran di bawah 100um, kerataan di bawah 0.2mm dan Permukaan
-
Lembaran Tantalum (Ta)99.95%-99.99%
Cadar Tantalum (Ta) diperbuat daripada jongkong tantalum. Kami adalah pembekal global Cadar Tantalum (Ta) dan kami boleh menyediakan produk tantalum yang disesuaikan.Cadar Tantalum (Ta) dihasilkan melalui Proses Kerja Sejuk, melalui penempaan, penggulungan, swaging dan lukisan untuk mendapatkan saiz yang diingini.
